無錫冠亞智能裝備有限公司
半導(dǎo)體光刻水冷機(jī)系統(tǒng)故障機(jī)理研究：溫控偏差成因、泄漏失效分析與介質(zhì)變質(zhì)防控
35半導(dǎo)體光刻行業(yè)對溫度控制的精度和穩(wěn)定性要求嚴(yán)苛，光刻水冷機(jī)作為核心溫控設(shè)備之一，其運(yùn)行狀態(tài)直接影響光刻工藝的穩(wěn)定性。從原理層面分析，光刻水冷機(jī)在實(shí)際應(yīng)用中可能面臨溫度控制偏差、系統(tǒng)泄漏、介質(zhì)污染等...
查看全文
17851209193