半導體Chiller設(shè)備在光刻、刻蝕與薄膜沉積中的應(yīng)用實踐 2025/07/25 43 在晶圓制造過程中,溫度控制的準確性直接影響光刻、刻蝕、薄膜沉積等關(guān)鍵工藝的穩(wěn)定性與產(chǎn)品良率。半導體Chiller設(shè)備作為溫度控制的核心裝置之一,通過制冷與加熱的動態(tài)調(diào)節(jié),為不同制程提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境。 ... 查看全文