半導體制造是一個對環(huán)境要求極高的過程，許多工藝步驟對溫度非常敏感。

例如，在光刻工藝中，光刻機的光學系統(tǒng)需要在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下工作，因為溫度的微小變化可能導致光路的偏差，進而影響光刻的精度。在化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）等工藝中，反應溫度直接影響薄膜的質量和性能。精確的溫度控制能夠確保沉積的薄膜厚度均勻、成分準確，從而提高芯片的性能和良率。